| 工藝 | 代號 |
| 熱處理 | 500 |
| 整體熱處理 | 510 |
| 可控氣氛熱處理 | 500-01 |
| 真空熱處理 | 500-02 |
| 鹽浴熱處理 | 500-03 |
| 感應(yīng)熱處理 | 500-04 |
| 火焰熱處理 | 500-05 |
| 激光熱處理 | 500-06 |
| 電子束熱處理 | 500-07 |
| 離子轟擊熱處理 | 500-08 |
| 液態(tài)床熱處理 | 500-10 |
| 退火 | 511 |
| 去應(yīng)力退火 | 511-St |
| 均勻化退火 | 511-H |
| 再結(jié)晶退火 | 511-R |
| 石墨化退火 | 511-C |
| 脫氫處理 | 511-D |
| 球化退火 | 511-Sp |
| 等溫退火 | 511-I |
| 完全退火 | 511-F |
| 不完全退火 | 511-P |
| 正火 | 512 |
| 淬火 | 513 |
| 感應(yīng)淬火和回火 | 521-04 |
| 火焰淬火和回火 | 521-05 |
| 激光淬火和回火 | 521-06 |
| 電子束淬火和回火 | 521-07 |
| 電接觸淬火和回火 | 521-11 |
| 物理氣相沉積 | 522 |
| 化學(xué)氣相沉積 | 523 |
| 等離子體增強化學(xué)氣相沉積 | 524 |
| 離子注入 | 525 |
| 化學(xué)熱處理 | 530 |
| 滲碳 | 531 |
| 可控氣氛滲碳 | 531-01 |
| 真空滲碳 | 531-02 |
| 鹽浴滲碳 | 531-03 |
| 固體滲碳 | 531-09 |
| 液態(tài)床滲碳 | 531-10 |
| 離子滲碳 | 531-08 |
| 碳氮共滲 | 532 |
| 滲氮 | 533 |
| 氣體滲氮 | 533-01 |
| 液體滲氮 | 533-03 |
| 離子滲氮 | 533-08 |
| 液態(tài)床滲氮 | 533-10 |
| 氮碳共滲 | 534 |
| 滲其他非金屬 | 535 |
| 滲硼 | 535（B） |
| 氣體滲硼 | 535-01（B） |
| 液體滲硼 | 535-03（B） |
| 離子滲硼 | 535-08（B） |
| 固體滲硼 | 535-09（B） |
| 滲硅 | 535（Si） |
| 滲硫 | 535（S） |
| 滲金屬 | 536 |
| 滲鋁 | 536（Al） |
| 滲鉻 | 536（Cr） |
| 滲鋅 | 536（Zn） |
| 滲釩 | 536（V） |
| 多元共滲 | 537 |
| 硫氮共滲 | 537（S-N） |
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